半導体フォトレジスト材料の製造設備を新設する九州事業所・福岡地区

三菱ケミカルグループは12日、九州事業所・福岡地区（北九州市八幡西区）に半導体フォトレジスト材料の製造設備を新設すると発表した。先端半導体の需要増や、事業継続計画（BCP）に対応する。 【写真】三菱ケミカルGの半導体製造装置の精密洗浄工場 フッ化アルゴン（ArF）フォトレジスト用感光性ポリマーの設備を2025年10月、極端紫外線（EUV）フォトレジスト用同ポリマーの設備を25年9月に稼働する予定。ArFフォトレジスト用同ポリマーは生産能力が2倍以上に高まるほか、EUVフォトレジスト用同ポリマーは初めての量産となる。投資額は数十億円を見込む。 同社の同ポリマー「リソマックス」は半導体の回路パターンをウエハーに転写する工程で使用されるフォトレジストの主成分となる樹脂で、金属含有量や不純物が少ない点が特徴。半導体の回路の微細化に伴う品質要求に対応でき、多くのフォトレジストメーカーに採用されている。 リソマックスは関東事業所・鶴見地区（横浜市鶴見区）で生産しているが、拡大する半導体関連の需要増などを見込み、生産体制を強化する。