住友精化は2025年4―6月をめどに、フラッシュメモリーなどの半導体製造工程で使う材料ガスのジボラン（B2H6）の生産能力を引き上げる。千葉工場（千葉県八千代市）で生産のボトルネックとなっていた後工程の設備を追加し、生産能力を50％増やす。人工知能（AI）データセンター向けのNAND型フラッシュメモリーやDRAMの需要が戻ってきていることを踏まえ、生産能力の増強で対応する。 今回の生産増強にかかる投資額は明らかにしていない。ジボランはp型半導体を作る際に、シリコン単結晶にホウ素をドーピング（拡散）する工程で使われる。 住友精化はメモリーの製造に多く使用される半導体用ガスの一酸化炭素（CO）についても、23年に韓国子会社の住精ケミカル（ソウル）の長安工場に新工場棟を新設。生産能力を22年比約50％増やしている。 COは日本国内から輸出していたが、半導体需要が回復基調にあることから、23年にCOガスの現地生産を始めた。消費地の近くで安定供給できる体制を整えることで、事業継続計画（BCP）対策にも生かす。 住友精化は半導体用ガスで、24年度に23年度比20％程度の増収を見込む。半導体用ガスを含む機能マテリアル事業の24年3月期売上高は362億円。