ラピダス、千歳市の新工場でＡＳＭＬ露光装置の設置作業が開始
（ブルームバーグ）： ラピダスは18日、北海道千歳市の新工場で次世代半導体の製造に欠かせないオランダＡＳＭＬホールディングの極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置の搬入と設置作業が始まったと明らかにした。
日本で量産のためにＥＵＶ露光装置が導入されるのは初めてとなる。東哲郎会長は11日、開催中のセミコンジャパンで、18日に搬入を開始して来年３月末には全ての装置の設置が完了する予定だとしていた。
新千歳空港内で記者会見した小池淳義社長は、回路線幅２ナノメートル（ｎｍ）半導体の製造に向けて順調に進んでいることを強調した上で、「導入されるＥＵＶ露光装置は１台や２台ではない」と話した。生産能力を表すことになりかねないため台数は極秘にされている。
４月以降の２ナノ半導体製造に向けて計画通り進んでいるとする半面、「２ナノの生産は当然難しい。超えなければいけない課題は山のようにある」との見方も示した。
同社は来年４月にはパイロットラインの稼働を計画しており、2027年までに２ナノ半導体の量産開始を目指している。
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Takashi Mochizuki
