使用可能面積99％以上に拡大…旭化成が「窒化アルミ単結晶基板」で成功
旭化成は2024年度下期から、直径4インチ（100ミリメートル）の窒化アルミニウム（AlN）単結晶基板のサンプル提供を始める。AlN基板の使用可能面積を従来の80％から99％以上に拡大することに成功した。27年の実用化に向け、顧客ニーズを捉えつつ研究開発を加速する。 【写真】使用可能面積を99%以上に拡大した「AIN基板」 子会社の米クリスタル・アイエス（ニューヨーク州）が手がける。AlNは炭化ケイ素（SiC）や窒化ガリウム（GaN）に比べて電力損失が少ないなどの特徴があり、パワー半導体向けなどでの需要を想定する。実用化には大口径化が重要で、23年8月には4インチ化に世界で初めて成功した。半導体デバイスメーカーへのサンプル提供を通じ、コスト面などの改善につなげる。 4インチのAlN基板は深紫外線（UV―C）発光ダイオード（LED）向けでも使用する考えだ。
