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- インテル、ASML次世代半導体装置を組み立て 世界初…米半導体大手インテルは18日、オランダ半導体装置大手ASMLの次世代EUV(極端紫外線)露光装置「高NA・EUV」を組み立てる世界初の企業になったと発表した。 同装置…ロイター経済総合
- 2ナノ世代半導体向けフォトマスク 製造プロセス開発を本格化、DNP…。半導体製造の最先端プロセスであるEUV(極端紫外線)リソグラフィーに対応するものだ。 DNPの計画では、EUVリソグラフィーに対応した2ナノメート…電波新聞デジタル産業
- メモリー輸出も、AI時代の非メモリーも不振…赤信号灯った「半導体強国」韓国…半導体の知経学、チップをめぐるゲーム・オブ・スローンズ メモリーにとらわれた韓国 830億ドル(2018年)から 429億ドル(2023年)に。 …ハンギョレ新聞韓国・北朝鮮
- 10年で時価総額250倍、レーザーテックはどこまで伸びるか…査装置の分野で圧倒的なシェアを握る同社では、先端半導体の製造に欠かせないEUV(極端紫外線)露光用検査装置の受注が急増している。半導体製造用のフォトマ…会社四季報オンライン経済総合
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