めっき処理前(左)と処理後(右)のガラス基板外観[クリックで拡大] 出所:アキレス(写真:MONOist)ガラス基板への高密着めっき形成技術を開発 低温/常圧のプロセス【関連記事】めっきによりガラス基板上に微細配線を形成[クリックで拡大] 出所:アキレス次世代半導体パッケージに使えるガラスセラミックスコア基板を開発半導体ガラスコア基板の開発目指し CO2レーザーでビア形成を可能にするため協業インテルがガラス基板で半導体進化の限界を打ち破る、2020年代後半に量産適用CO2レーザー加工に対応するガラスコア基板の開発に着手深紫外ピコ秒レーザー加工装置、半導体パッケージやガラスの高速微細加工を実現