大日本印刷（DNP）は27日、極端紫外線（EUV）リソグラフィーに対応した2ナノメートル（ナノは10億分の1）世代のロジック半導体向けフォトマスク（半導体回路の原版）製造プロセスの開発を始めたと発表した。2027年度に国内で量産開始を目指す。同社はラピダス（東京都千代田区）が新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）から受託した「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画しており、技術提供はその一環。 EUV露光に対応するEUVマスクは描画パターンが多く、描画時間を大幅に短縮できるマルチ電子ビーム描画装置での製造が主流。DNPは上福岡工場（埼玉県ふじみ野市）で1台が稼働中のほか、2台目も国内で稼働済み。24年度中に3台目の稼働も計画する。 同社は23―25年度に半導体関連で200億円を投資する。EUV露光の周辺技術開発の支援なども含めEUVマスクで30年に年間100億円の売り上げを目指す。 DNPはベルギーに本部を置く半導体の国際研究機関imecと共同で2ナノメートル世代以降を見据えた開発にも着手している。