2nm世代以降のEUVリソグラフィ向けフォトマスク[クリックで拡大] 出所:大日本印刷(写真:EE Times Japan)EUV用フォトマスク上で2nm以降の微細パターン解像に成功、DNP【関連記事】EUVリソグラフィ用フォトマスク上の線幅17nmのLine&Spaceパターン画像[クリックで拡大] 出所:大日本印刷EUVフォトマスクやTGVガラスコア基板など幅広く紹介、DNPEUV用フォトマスク製造プロセス開発、DNPが加速富士通が新光電気を売却へ JIC、大日本印刷、三井化学にDNP、3nm相当のフォトマスク製造プロセスを開発極細で長い銀ナノワイヤが決め手、透明導電フィルム